鈦硅合金材料是一種高熔點的金屬間化合物，具有低的密度、良好的抗氧化性，因而受到廣泛的重視。TiSi2是一種重要的硅化物，具有較好的高溫穩定性、較高的高溫強度和良好的抗氧化能力，有希望成為1200℃以上使用的結構材料。由于其電阻和熱阻均較低，TiSi2也有希望應用于電氣連接和擴散阻擋層，目前已被作為歐姆接觸和金屬互聯材料廣泛用于超大規模集成電路制造技術中；

另外TiSi2薄膜在高溫下對壓力很敏感，有望成為高溫時的壓力感應器材料。Ti5Si3具有六方D88型晶體結構，具有高溫強度大，抗高溫氧化性能好等優點。TiSi具有低電阻率、較高的熱穩定性以及化學穩定性等諸多優異的性能。

傳統的鈦硅合金的制備是采用純金屬鈦和硅為原料制備的，由于金屬鈦制備成本高，工藝流程長，導致制備的鈦硅合金成本較高。工業用硅粉、碳粉和碳化鈦為原料，利用放電等離子燒結技術原位反應制備了TiSi2/SiC兩相復合材料。弱放熱反應TiSi2燃燒合成的粉末冶金技術，用自蔓延高溫燃燒法合成了TiSi2單相化合物，其合成過程需要氬氣保護。

FFC法制備鈦硅合金采用FFC法直接用TiO2和SiO2為原料熔鹽電解直接制備鈦硅合金，主要包括陰極制備和電解兩個部分。陰極制備流程包括如下步驟：均勻混合TiO2、SiO2粉末；添加1％(質量比)的聚乙烯醇作為粘結劑；20MPa壓力下壓成形；1200℃下燒結4h；燒結后的片體和鉬絲、鎳硅絲組裝成復合陰極。適宜的電解條件為：以燒結的TiO2-SiO2片體為陰極,石墨坩堝為陽極,電解溫度900℃、電解電壓3.0V。其原料的處理較繁瑣。目前還沒有見到電硅熱還原鈦白粉一步合成制備鈦硅合金。

鈦合金的種類及各鈦合金中的化學成分，其硅含量較低，鈦含量較高，硅的含量低于0.6％，鈦硅合金Ti-6Al-0.6Cr-0.4Fe-0.4Si-0.01B，其Al含量50～6.5％，Gr含量0.4～0.9％，Fe 0.25～0.60％，Si含量0.25～0.60％，B含量0.01％，其它元素含量0.40，余量為Ti，合金的密度較高。目前這種鈦硅合金材料，它的鈦硅合金鈦含量低，硅含量高，合金密度低，用于航空，航海等領域可節約能耗。而且很多合金公司都在采用這種方式進行生產鈦硅合金材料，這種新方法比過去的鈦硅合金材料生產具有非常明顯的優勢。