由于氧化銦/氧化錫（In2O3/SnO2 90/10 WT%）的導電性和光學透明性，它在薄膜行業被大量利用。按照90 / 10重量比的化合物熔點約為1800°C，密度為7.14克/毫升。各種ITO化合物的顏色范圍從淺黃色到深綠色或深灰色。它在真空下蒸鍍或濺射，形成透明導電層，用于液晶顯示器和各種光學涂層的制造。ITO薄膜被創建和應用于傳感器和汽車工業的玻璃涂層。
| 材料 | 氧化銦錫 |
| 化學成分 | In2O3/SnO2 90/10 wt % |
| 純度 | 3N5-5N |
| 熔點 (°C) | 1,800 |
真空蒸鍍是指在真空中通過電流加熱，電子束轟擊加熱和激光加熱等方法，使被蒸材料蒸發成原子或分子，它們隨即以較大的自由程作直線運動，碰撞基片表面而凝結，形成薄膜。
立承德（ NEXTECK ）提供各種高質量的蒸鍍材料，具有全方位的純度和尺寸，以滿足客戶的需求。我們提供貴金屬以及非貴金屬薄膜材料。廣泛應用于汽車、航空航天、醫學、平板顯示、磁(光)記錄媒體、鍍膜玻璃、光學鍍膜、硬質膜、裝飾膜等領域。
